PDACorp — Новостная корпорация
Ограничения, наложенные на Китай в сфере передовых полупроводниковых технологий, заставили страну искать инновационные решения. Одним из таких прорывов стала разработка собственного 10-нм импринтного литографа, который может стать достойной альтернативой санкционному EUV-оборудованию. В этой статье мы рассмотрим, как китайские инженеры справляются с вызовами, какие преимущества предлагает новая технология и что это значит для мировой полупроводниковой индустрии.
Что такое импринтная литография?
Основной принцип технологии
Импринтная литография (Nanoimprint Lithography, NIL) — это метод прямого механического переноса наноструктур на подложку с использованием высокоточных штампов. В отличие от традиционной оптической литографии, где изображение формируется с помощью света, здесь процесс основан на физическом давлении.
Преимущества и ограничения
- Экономия материалов: Капельное нанесение фоторезиста позволяет минимизировать расходы.
- Отсутствие сложной оптики: Не требуется использование дорогостоящих EUV-лазеров и зеркал.
- Ограничения: Технология пока не подходит для массового производства чипов с нормами менее 3 нм.
Китайская разработка: установка PuLin PL-SR
Особенности оборудования
Компания Pulin Technology представила степпер для пошагового нанесения отпечатка шаблона. Установка способна обрабатывать 12-дюймовые (300-мм) пластины, что делает её пригодной для крупносерийного производства.
Технологические нормы
Новая машина позволяет печатать штампами с нормами до 10 нм. Это сравнимо с характеристиками оборудования Canon FPA-1200NZ2C, поставленного в США в 2024 году.
Значение для китайской промышленности
Снижение зависимости от импорта
«Разработка собственного литографа — это важный шаг для Китая в условиях санкций», — отмечают эксперты.
Применение в различных отраслях
- Память: Изготовление опытных чипов памяти.
- Фотоника: Производство кремниевой фотоники.
- Микродисплеи: Создание современных дисплейных технологий.
Китайская импринтная литография демонстрирует потенциал для снижения зависимости от зарубежных технологий. Хотя она пока не может полностью заменить EUV, её внедрение открывает новые горизонты для развития полупроводниковой промышленности Поднебесной.
